• Skip to main menu
• Skip to search engine
• Skip to content
• Skip to footer

• Search in all Repository
• Literature and maps
• Archeology
• Mills database
• Natural sciences

Search in Repository

Search field Search

How to search... Advanced search

Advanced search

Close

All fields Search in content Name/Title Geographical location Relation Subject and Keywords

A.D. B.C.

A.D. B.C.

and or

Name/Title Geographical location Relation Subject and Keywords

A.D. B.C.

A.D. B.C.

$['SimpleSearchComponent.RemoveBtn']

Add query element

Object contains the geographical coordinates

How to search...

Search

Search in Literature and maps

Search field Search

How to search... Advanced search

Advanced search

Close

All fields Search in content Title Relation Author/Creator Subject and Keywords Publisher Publishing date Spatial coverage

A.D. B.C.

A.D. B.C.

and or

Title Relation Author/Creator Subject and Keywords Publisher Publishing date Spatial coverage

A.D. B.C.

A.D. B.C.

$['SimpleSearchComponent.RemoveBtn']

Add query element

Object contains the geographical coordinates

How to search...

Search

Search in Archeology

Search field Search

How to search... Advanced search

Advanced search

Close

All fields Search in content Name Localisation Object type Research Manager/ Creator of Collection Chronology Relation Characteristics of the object- raw material Accession number

A.D. B.C.

A.D. B.C.

and or

Name Localisation Object type Research Manager/ Creator of Collection Chronology Relation Characteristics of the object- raw material Accession number

A.D. B.C.

A.D. B.C.

$['SimpleSearchComponent.RemoveBtn']

Add query element

Object contains the geographical coordinates

How to search...

Search

Search in Mills database

Search field Search

How to search... Advanced search

Advanced search

Close

All fields Search in content Unified name Localisation Object type

A.D. B.C.

A.D. B.C.

and or

Unified name Localisation Object type

A.D. B.C.

A.D. B.C.

$['SimpleSearchComponent.RemoveBtn']

Add query element

Object contains the geographical coordinates

How to search...

Search

Search in Natural sciences

Search field Search

How to search... Advanced search

Advanced search

Close

All fields Search in content Herbarium acronym catalogNumber/barcode Supra-generic category Latin name Polish name Localisation Collection date Collector/ Recorded by Type

A.D. B.C.

A.D. B.C.

and or

Herbarium acronym catalogNumber/barcode Supra-generic category Latin name Polish name Localisation Collection date Collector/ Recorded by Type

A.D. B.C.

A.D. B.C.

$['SimpleSearchComponent.RemoveBtn']

Add query element

Nomenclature type

Object contains the geographical coordinates

How to search...

Search

Secured publication

Sending declined. Incorrect text from the image.

Sending declined. reCAPTCHA verification has failed.

This publication is unavailable to your account. If you have more privileged account please try to use it or contact with the institution connected to this digital library.

Type your email^* Type your reason^*

Enter the text above. ^*

Cancel Send

Object

Download bibliography description

• ris
• BibTeX
• EndNote
• Csv

• pl en

Subscribtion state has been changed.

Error while changing subscribtion state.

• Show content

Download

• Description
• Information
• Structure

Title: Badania zależności składu i struktury chemicznie osadzonych warstw azotku krzemu od parametrów procesu technologicznego = Investigation of chemically deposited Si3N4 films composition and structure-depending on technological process parameters

Creator:

Skrzynecka Irena

Date issued/created:

1974

Resource type:

Text

More

Subtitle:

Materiały Elektroniczne 1974 nr 8

Publisher:

Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"

Place of publishing:

Warszawa

Description:

s. 38-[46] : il. ; 24 cm. ; Bibliogr. s. [46]

Relation:

Electronic Materials

Issue:

8

Start page:

38

End page:

46

Detailed Resource Type:

Article

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

oai:rcin.org.pl:19679

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

pol

Rights:

Rights Reserved - Free Access

Terms of use:

Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms

Digitizing institution:

Institute of Electronic Materials Technology

Original in:

Library of the Electronic Materials Technology Institute

Projects co-financed by:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Access:

Open

Subject and keywords:

Electronic - materials Electronic - journal - materials Si3N4 CVD

Object collections:

• Digital Repository of Scientific Institutes > Partners' collections > Łukasiewicz Research Network - Institute of Microelectronics and Photonics > Electronic Materials
• Digital Repository of Scientific Institutes > Literature > Books/Chapters

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Feb 8, 2013

Number of object content downloads / hits:

847

All available object's versions:

https://rcin.org.pl./publication/10557

Show description in RDF format:

RDF

Show description in RDFa format:

RDFa

Show description in OAI-PMH format:

OAI-PMH

• MATERIAŁY ELEKTRONICZNE
  • Materiały Elektroniczne 1973
  • Materiały Elektroniczne 1974
    • Materiały Elektroniczne 1974 nr 5
    • Materiały Elektroniczne 1974 nr 6
    • Materiały Elektroniczne 1974 nr 7
    • Materiały Elektroniczne 1974 nr 8
      • Spis treści 1974 nr 8
      • Drożdż Tadeusz, Analiza termiczna ałunu (NH4)2SO4 - Al2(SO4)3 - 24H2O
      • Kozłowska Halina, Zastosowanie metody mikroanalizy rentgenowskiej do badania składu chemicznego warstw epitaksjalnych związków potrójnych grupy AIIIBV na przykładzie GA1-xAlxAs
      • Wolski, Kazimierz Wolski, Badania nad technologią, strukturą i niektórymi własnościami drutów z brązu srebrowego
      • Pawłowska Marta, Skaningowy mikroskop elektronowy jako narzędzie badań w technologii materiałów pomocniczych i elementów półprzewodnikowych
      • Skrzynecka Irena, Badania zależności składu i struktury chemicznie osadzonych warstw azotku krzemu od parametrów procesu technologicznego
  • Materiały Elektroniczne 1975
  • Materiały Elektroniczne 1976
  • Materiały Elektroniczne 1977
  • Materiały Elektroniczne 1978
  • Materiały Elektroniczne 1979
  • Materiały Elektroniczne 1980
  • Materiały Elektroniczne 1981
  • Materiały Elektroniczne 1982
  • Materiały Elektroniczne 1983
  • Materiały Elektroniczne 1984
  • Materiały Elektroniczne 1985
  • Materiały Elektroniczne 1986
  • Materiały Elektroniczne 1987
  • Materiały Elektroniczne 1988
  • Materiały Elektroniczne 1989
  • Materiały Elektroniczne 1990
  • Materiały Elektroniczne 1991
  • Materiały Elektroniczne 1992
  • Materiały Elektroniczne 1993
  • Materiały Elektroniczne 1994
  • Materiały Elektroniczne 1995
  • Materiały Elektroniczne 1996
  • Materiały Elektroniczne 1997
  • Materiały Elektroniczne 1998
  • Materiały Elektroniczne 1999
  • Materiały Elektroniczne 2000
  • Materiały Elektroniczne 2001
  • Materiały Elektroniczne 2002
  • Materiały Elektroniczne 2003
  • Materiały Elektroniczne 2004
  • Materiały Elektroniczne 2005
  • Materiały Elektroniczne 2006
  • Materiały Elektroniczne 2007
  • Materiały Elektroniczne 2008
  • Materiały Elektroniczne 2009
  • Materiały Elektroniczne 2010
  • Materiały Elektroniczne 2011
  • Materiały Elektroniczne 2012
  • Materiały Elektroniczne 2013
  • Materiały Elektroniczne 2014
  • Materiały Elektroniczne 2015
  • Materiały Elektroniczne 2016
  • Materiały Elektroniczne 2017
  • Materiały Elektroniczne 2018
  • Materiały Elektroniczne 2019
  • Materiały Elektroniczne 2020

Edition name	Date
Skrzynecka Irena, Badania zależności składu i struktury chemicznie osadzonych warstw azotku krzemu od parametrów procesu technologicznego	Oct 2, 2020

Objects Similar

Badanie maskowania procesu termicznego utleniania krzemu przez chemicznie osadzane warstwy azotku krzemu = Masking investigation of silicon thermal oxidation process by chemically deposited Si3N4 films

Skrzynecka Irena

1975

Text

• ris
• BibTeX

Ograniczenie zjawiska samodomieszkowania w epitaksji krzemu = Limitation of the autodoping effects a silicon epitaxy

Nossarzewska-Orłowska Elżbieta

1985

Text

• ris
• BibTeX

Epitaksja GaP/GaP z fazy gazowej dla przyrządów emitujących swiatło żółto-zielone. Własności strukturalne i elektrooptyczne = Vapour phase epitaxy for devices emitting the yellow-green light the structural and electrooptical properties

Strupiński Włodzimierz

1985

Text

• ris
• BibTeX

Epitaksja odwrotna w technologii otrzymywania krzemowych przyrządów półprzewodnikowych = Reversed epitaxy in the silicon devices technology

Nossarzewska-Orłowska Elżbieta

1978

Text

• ris
• BibTeX

Modelowanie procesu epitaksji z fazy gazowej = The modeling of the CVD epitaxial process

Korec Jacek

1985

Text

• ris
• BibTeX

Metoda dwutemperaturowego wzrostu krzemowych warstw epitaksjalnych = Two-temperature growth of Si epitaxial layers

Borkowicz Jerzy

1975

Text

• ris
• BibTeX

Badania nad otrzymywaniem warstw epitaksjalnych arsenku galu z fazy gazowej w układzie otwartym Ga-AsCl3-H2 = Investigations on obtaining of gallium arsenide epitaxial layers from gase phase in the open system Ga-AsCl3-H2

Brzozowski Waldemar

1973

Book/Chapter

• ris
• BibTeX

Epitaksja krzemu. Kierunki rozwoju = Silicon epitaxy. Trends

Nossarzewska-Orłowska Elżbieta

1984

Text

• ris
• BibTeX

More

similar in FBC

More in FBC