Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors - Digital Repository of Scientific Institutes

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors

Download

Title: Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych = Application of the Mueller calculus for the analysis of stress-induced birefingence in semiconductors

Creator:

Date issued/created:

Resource type:

Subtitle:

Proceedings of ITME 1988 z. 25

Contributor:

Adamkiewicz Grażyna

Publisher:

Wydaw. Przem. Masz. "WEMA"

Place of publishing:

Description:

47 s. : il. 24 cm. ; Bibliogr. s. 45-46

Relation:

Proceedings of ITME

Issue:

Start page:

End page:

Detailed Resource Type:

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

oai:rcin.org.pl:31768

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

Rights:

Rights Reserved - Free Access

Terms of use:

Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms

Digitizing institution:

Institute of Electronic Materials Technology

Original in:

Library of the Institute of Electronic Materials Technology

Projects co-financed by:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Access:

Subject and keywords:

Electronic - journal - material Electronic materials stress-induced birefringence semiconductor crystal Mueller calculus

Object collections:

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Aug 7, 2013

Number of object content downloads / hits:

878

All available object's versions:

https://rcin.org.pl./publication/17917

Show description in RDF format:

Show description in RDFa format:

Show description in OAI-PMH format:

PRACE ITME
- PRACE ONPMP
- PRACE ITME

Edition name	Date
Bajor Andrzej, Zastosowanie metody Muellera do analizy zjawiska dwójłomności wymuszonej mechanicznie w materiałach półprzewodnikowych	Oct 2, 2020

Objects Similar

Fotometryczna metoda pomiaru naprężeń w materiałach półprzewodnikowych = Intensity method for stress measurement of semiconductors

Bajor Andrzej

1985

Text

Zastosowanie formuły Robertsona do wyznaczania wielkości naprężeń w materiałach półprzewodnikowych = The use of Robertson's formula for the evaluation of stress in semiconductor materials

Bajor Andrzej

1987

Text

Some problems of optical inhomogeneity testing in crystalline materials by imaging polarimetry = Niektóre problemy badań niejednorodności optycznej kryształów za pomocą polarymetru obrazowego

Bajor Andrzej L.

1996

Text

Polarymetryczna metoda badania dyspersji dwójłomności w kryształach = Polarimetric method of birefringence dispersion investigation in crystals

Bajor Andrzej Leopold

2004

Text

Analiza stanów naprężeń w procesach ciągnienia i hydrostatycznego wyciskania drutu = An analysis of the state of stresses in drawing and hydrostatic extrusion processes

Erbel Stanisław

1980

Text

Udział pracowników ITME w konferencjach 1996 T.24 nr 2/3 = ITME employees oarticipation in conference 1996 T.24 nr 2/3

1996

Text

Inżynieria Materiałów Elektronicznych. II Seminarium zorganizowane pod patronatem KBN 16 grudnia 1997 roku

1997

Text

Potencjalne możliwości zastosowań polaryskopu liniowego do badań naprężeń i defektów strukturalnych w materiałach półprzewodnikowych = Potentialities of the plane polariscope for studing of residual stress and crystallographic defects in semiconductors

Adamkiewicz Grażyna

1988

Text

More

Citation style:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

This page uses 'cookies'. More information