Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru - Digital Repository of Scientific Institutes

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru

Download

Title: Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru

Creator:

Tomaszewski Henryk

Date issued/created:

Resource type:

Subtitle:

Materiały Elektroniczne 1996 T.24 nr 2/3

Contributor:

Haemers Johan ; De Roo Nico ; De Gryse Roger

Publisher:

Place of publishing:

Description:

32-42 s. : il. ; Bibliogr. s. 41

Relation:

Materiały Elektroniczne

Volume:

Issue:

Start page:

End page:

Detailed Resource Type:

Format:

24 cm. ; application/pdf

Resource Identifier:

oai:rcin.org.pl:15346

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

Rights:

Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony

Terms of use:

Zasób chroniony prawem autorskim. Korzystanie dozwolone w zakresie określonym przez przepisy o dozwolonym użytku.

Digitizing institution:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Original in:

Biblioteka Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych

Projects co-financed by:

Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 2. Infrastruktura strefy B + R ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego

Access:

Subject and keywords:

Materiały elektroniczne Elektronika - czasopismo - materiały rozpylanie magnetronowe ZrO XRD

Object collections:

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Oct 15, 2012

Number of object content downloads / hits:

927

All available object's versions:

https://rcin.org.pl./publication/14925

Show description in RDF format:

Show description in RDFa format:

Show description in OAI-PMH format:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Edition name	Date
Tomaszewski Henryk, Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films	Oct 2, 2020

Objects Similar

Wpływ zawartośąci tlenu w atmosferze spiekania na przemianę C-T niestabilizowanych ziaren dwutlenku cyrkonu rozproszonych w korundowej martycy. Cz. 2

Tomaszewski Henryk

1994

Tekst

Dwutlenek cyrkonu jako nowoczesny ceramiczny materiał konstrukcyjny

Kulczycki Adam

1982

Tekst

Procesy zachodzące w toku spiekania tworzyw o składzie stechiometrycznym ZrO2 - TiO2 domieszkowanych tlenkiem cynku

Adamiec Maria

1977

Tekst

Badania nad wpływem domieszki CaO na własności spieków ceramicznych ZnO-Zr02

Raabe Jerzy

1990

Tekst

Kompozyt Al203-ZrO2 wzmocniony płatkami grafenowymi Marek Boniecki, Przemysław Gołębiewski, Władysław Wesołowski, Michał Woluntarski, Rafał Zybała, Kamil Kaszyca, Anna Piątkowska, Magdalena Romaniec, Paweł Ciepielewski, Konrad Krzyżak.

Boniecki Marek

2016

Tekst

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Tomaszewski Henryk

2003

Tekst

Analiza możliwości zastosowania wysokorozdzielczej dyfraktomaterii rentgenowskiej do badań parametrów strukturalnych warstw epitaksjalnych i supersieci

Sass Jerzy

1994

Tekst

Nowe metody technologii ceramicznej

Tomaszewski Henryk

1979

Tekst

More

Citation style:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

This page uses 'cookies'. More information