Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Przejdź do menu głównego
Przejdź do wyszukiwarki
Przejdź do treści
Przejdź do stopki

Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride

Pobierz

Tytuł: Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride

Twórca:

Data wydania/powstania:

Typ zasobu:

Inny tytuł:

Materiały Elektroniczne 1973 nr 2

Wydawca:

Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"

Miejsce wydania:

Opis:

s. 46-50 : il. ; 24 cm. ; Bibliogr. s. 50

Typ obiektu:

Czasopismo/Seria/cykl:

Electronic Materials

Zeszyt:

Strona pocz.:

Strona końc.:

Szczegółowy typ zasobu:

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:rcin.org.pl:18959

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

Prawa:

Zasady wykorzystania:

Material outside of copyright protection. May be used without restrictions following from economic copyrights

Digitalizacja:

Institute of Electronic Materials Technology

Lokalizacja oryginału:

Library of the Electronic Materials Technology Institute

Dofinansowane ze środków:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Dostęp:

Temat i słowa kluczowe:

Electronic - journal - material Electronic - materials gas chromatography gaseous HCl O2 H2O

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2 paź 2020

Data dodania obiektu:

23 sty 2013

Liczba pobrań / odtworzeń:

1195

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://rcin.org.pl./publication/10333

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie RDFa:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Nazwa wydania	Data
Wolnik Irena, Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze	2 paź 2020

Obiekty Podobne

Zastosowanie chromatografii gazowej do analizy mieszanin gazowych wodoru lub argonu z fosforowodorem = Gas chramotography use in the analysis of hydrogen or argon gas mixtures with phosphid. Determination of N2, CH4, CO, CO2, PH3 as well as O2 and H2O

Wolnik Irena

1973

Text

Procesy zachodzące w toku spiekania tworzyw o składzie stechiometrycznym ZrO2 - TiO2 domieszkowanych tlenkiem cynku = Process occuring during the sintering of ceramic materials with stoichiometric composition of ZrO2 + TiO2 doped zinc oxide

Adamiec Maria

1977

Text

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Tomaszewski Henryk

2003

Text

Dwutlenek cyrkonu jako nowoczesny ceramiczny materiał konstrukcyjny = Zirconia - modern ceramic engineering material

Kulczycki Adam

1982

Text

Warstwy proszkowe SnO2 nanoszone metoda eksplozji elektrycznej

Kubicki Jan

2008

Text

Wpływ zawartośąci tlenu w atmosferze spiekania na przemianę C-T niestabilizowanych ziaren dwutlenku cyrkonu rozproszonych w korundowej martycy. Cz. 2 = Oxygen vacancy concentration - phase composition of zirconia dispersed in alumina matrix

Tomaszewski, Henryk

1994

Text

Oznaczanie sodu i potasu w tlenkowych związkach rutenu metodą płomieniowej emisyjnej spektrom etrii atomowej = Determination of Na and K in ruthenium oxide compopunds by flame atomic emission spectrometry

Chruścińska Teresa Joanna

1981

Text

A constribution to the sonsideration of the synthesis of compounds by the reaction sintering of Oxide powders = Niektóre aspekty reakcji składników w procesie spiekania sproszkowanych tlenków

Kostič-Gvozdenovič Lj.

1977

Text

Więcej

Styl cytowania:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji