Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride - Digital Repository of Scientific Institutes

Skip to main menu
Skip to search engine
Skip to content
Skip to footer

Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride

Download

Title: Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze = Oxygen water vapour determination in gaseous hydrogen chloride

Creator:

Date issued/created:

Resource type:

Subtitle:

Materiały Elektroniczne 1973 nr 2

Publisher:

Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"

Place of publishing:

Description:

s. 46-50 : il. ; 24 cm. ; Bibliogr. s. 50

Type of object:

Relation:

Electronic Materials

Issue:

Start page:

End page:

Detailed Resource Type:

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

oai:rcin.org.pl:18959

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

Rights:

Terms of use:

Material outside of copyright protection. May be used without restrictions following from economic copyrights

Digitizing institution:

Institute of Electronic Materials Technology

Original in:

Library of the Electronic Materials Technology Institute

Projects co-financed by:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Access:

Subject and keywords:

Electronic - journal - material Electronic - materials gas chromatography gaseous HCl O2 H2O

Object collections:

Last modified:

Oct 2, 2020

In our library since:

Jan 23, 2013

Number of object content downloads / hits:

1195

All available object's versions:

https://rcin.org.pl./publication/10333

Show description in RDF format:

Show description in RDFa format:

Show description in OAI-PMH format:

MATERIAŁY ELEKTRONICZNE

Edition name	Date
Wolnik Irena, Oznaczanie tlenu i pary wodnej w gazowym chlorowodorze	Oct 2, 2020

Objects Similar

Zastosowanie chromatografii gazowej do analizy mieszanin gazowych wodoru lub argonu z fosforowodorem = Gas chramotography use in the analysis of hydrogen or argon gas mixtures with phosphid. Determination of N2, CH4, CO, CO2, PH3 as well as O2 and H2O

Wolnik Irena

1973

Text

Procesy zachodzące w toku spiekania tworzyw o składzie stechiometrycznym ZrO2 - TiO2 domieszkowanych tlenkiem cynku = Process occuring during the sintering of ceramic materials with stoichiometric composition of ZrO2 + TiO2 doped zinc oxide

Adamiec Maria

1977

Text

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Tomaszewski Henryk

2003

Text

Dwutlenek cyrkonu jako nowoczesny ceramiczny materiał konstrukcyjny = Zirconia - modern ceramic engineering material

Kulczycki Adam

1982

Text

Warstwy proszkowe SnO2 nanoszone metoda eksplozji elektrycznej

Kubicki Jan

2008

Text

Wpływ zawartośąci tlenu w atmosferze spiekania na przemianę C-T niestabilizowanych ziaren dwutlenku cyrkonu rozproszonych w korundowej martycy. Cz. 2 = Oxygen vacancy concentration - phase composition of zirconia dispersed in alumina matrix

Tomaszewski, Henryk

1994

Text

Oznaczanie sodu i potasu w tlenkowych związkach rutenu metodą płomieniowej emisyjnej spektrom etrii atomowej = Determination of Na and K in ruthenium oxide compopunds by flame atomic emission spectrometry

Chruścińska Teresa Joanna

1981

Text

A constribution to the sonsideration of the synthesis of compounds by the reaction sintering of Oxide powders = Niektóre aspekty reakcji składników w procesie spiekania sproszkowanych tlenków

Kostič-Gvozdenovič Lj.

1977

Text

More

Citation style:

iso690-author-date apa modern-language-association chicago-author-date

This page uses 'cookies'. More information