Wyszukiwanie zaawansowane
Wyszukiwanie zaawansowane
Wyszukiwanie zaawansowane
Wyszukiwanie zaawansowane
Wyszukiwanie zaawansowane
Polish Journal of Chemistry. T. 74, no. 10 (2000)
Polskie Towarzystwo Chemiczne. ; Polska Akademia Nauk. Komitet Nauk Chemicznych.
IChF PAN, sygn. P.64 ; kliknij tutaj, żeby przejść ; IChO PAN, sygn. P.54 Org.
Prawa zastrzeżone - dostęp ograniczony
Instytut Chemii Fizycznej Polskiej Akademii Nauk
Biblioteka Instytutu Chemii Fizycznej PAN
Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 1. Badania i rozwój nowoczesnych technologii ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego
2 lip 2023
23 paź 2013
68
https://rcin.org.pl./publication/49059
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Zhang, H., Isoelectric point of Si3N4 measured by an atomic force microscopy s. 1499-1502 | 2 lip 2023 |
Yan, H.-L. Zhang, L. Yan, S.-P. Liao, D.-Z. Wang, G.-L. Yao, X.-K.
Shu, C.Y. Shi, J.M. Liu, L. D. Lu, J. J. Shang, S. C. Zhang, H. P.
Gong, X. Li, H.L.
Wang, Z. Zhang. H.I. Li, H.L.
Tang, J.-K. Wang, H.-M. Cheng, P. Liu, X. Liao, D.-Z. Jiang, Z.-H. Yan, S.-P.
Zhang, L. Yan, H.-L. Yan, Z.-H. Jiang, Z.-H. Liao, D.-Z. Wang, G.-L.
Zhang, H. Wang, Y. Thürmer, R. Al-Qawasmeh, R.A. Voelter, W.
Sun, X.W.; Chu, C.H.; Zhang, Z.Y.; Wang, Q; Wang, S.F.