Title:

Wysokorezystywne wzorce do profilu rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych metodą oporności rozpływu w styku punktowym = High resistivity standards for measurement of resistivity profile in silicon epitaxial layers by spreading resistance method

Subtitle:

Materiały Elektroniczne 2013 T. 41 nr 4

Creator:

Brzozowski Andrzej

Contributor:

Sarnecki Jerzy ; Lipiński Dariusz ; Wodzińska Halina

Publisher:

ITME

Place of publishing:

Warszawa

Date issued/created:

2013

Description:

s. 20-26 : il. 30 cm.

Type of object:

Book/Chapter

Subject and Keywords:

rezystywność ; oporność rozpływu ; krzem monokrystaliczny ; warstwa epitaksjalna

Relation:

Electronic Materials

Volume:

41

Issue:

4

Start page:

20

End page:

26

Resource type:

Text

Detailed Resource Type:

Article

Format:

application/pdf

Source:

ITME, sygn. dostępny ; click here to follow the link

Language:

pol

Rights:

Rights Reserved - Free Access

Terms of use:

Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms

Digitizing institution:

Institute of Electronic Materials Technology

Original in:

Library of the Electronic Materials Technology Institute

Projects co-financed by:

Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund

Access:

Open