Język metadanych
Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
Twórca: Współtwórca: Wydawca: Miejsce wydania: Data wydania/powstania: Opis:Bibliogr. s. 34 ; 31-34 s. : il. 30 cm.
Temat i słowa kluczowe:Electronic - journal - materials ; Electronic - materials ; Bosch process ; ICP OES ; plasma etching ; high aspect ratio
Czasopismo/Seria/cykl: Tom: Zeszyt: Strona pocz.: Strona końc.: Typ zasobu: Szczegółowy typ zasobu: Format: Źródło: Język: Prawa: Zasady wykorzystania:Copyright-protected material. May be used within the limits of statutory user freedoms
Digitalizacja:Institute of Electronic Materials Technology
Lokalizacja oryginału:Library of the Electronic Materials Technology Institute
Dofinansowane ze środków:Programme Innovative Economy, 2010-2014, Priority Axis 2. R&D infrastructure ; European Union. European Regional Development Fund
Dostęp: