Tytuł:

Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering

Inny tytuł:

Materiały Elektroniczne 2003 T.31 nr 1/2

Twórca:

Tomaszewski Henryk

Wydawca:

ITME

Miejsce wydania:

Warszawa

Data wydania/powstania:

2003

Opis:

30-43 s. : il. 24 cm. ; Bibliogr. s. 42-43

Temat i słowa kluczowe:

Materiały elektroniczne ; Elektronika - czasopismo - materiały ; rozpylanie magnetronowe ; TiO2

Czasopismo/Seria/cykl:

Materiały Elektroniczne

Tom:

31

Zeszyt:

1/2

Strona pocz.:

30

Strona końc.:

43

Typ zasobu:

Tekst

Szczegółowy typ zasobu:

Artykuł

Format:

application/pdf

Źródło:

ITME, sygn. dostępny ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Prawa:

Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony

Zasady wykorzystania:

Zasób chroniony prawem autorskim. Korzystanie dozwolone w zakresie określonym przez przepisy o dozwolonym użytku.

Digitalizacja:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Lokalizacja oryginału:

Biblioteka Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych

Dofinansowane ze środków:

Program Operacyjny Innowacyjna Gospodarka, lata 2010-2014, Priorytet 2. Infrastruktura strefy B + R ; Unia Europejska. Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego

Dostęp:

Otwarty