@misc{Brzozowski_Andrzej_Wysokorezystywne_2013,
 author={Brzozowski Andrzej},
 volume={41},
 editor={Sarnecki Jerzy},
 editor={Lipiński Dariusz},
 editor={Wodzińska Halina},
 number={4},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 journal={Electronic Materials},
 address={Warszawa},
 howpublished={online},
 year={2013},
 publisher={ITME},
 language={pol},
 title={Wysokorezystywne wzorce do profilu rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych metodą oporności rozpływu w styku punktowym = High resistivity standards for measurement of resistivity profile in silicon epitaxial layers by spreading resistance method},
 type={Text},
 URL={http://rcin.org.pl./Content/46824/PDF/WA901_63373_M1_r2014-t41-z4_Mater-Elektron-Brzoz_i.pdf},
}